查特杜瓦瓶在工業生產和分析實驗中的典型應用

1 激光切割，查特杜瓦瓶配套激光切割機，為(wei) 激光切割機供應的切割碳鋼用的氧氣，一般使用查特杜瓦瓶儲(chu) 存大量的液氧，純度高於(yu) 99.5%，還有切割不鏽鋼使用的高純氮氣，需要使用查特杜瓦瓶儲(chu) 存大量的液氮，再通過汽化器汽化使用。一般出口壓力要求1-2mpa的壓力。激光切割機是大量消耗液氮液氧的設備，需要根據氣體(ti) 消耗量選用適合的杜瓦瓶。

2 液質聯用儀(yi) ，查特杜瓦瓶配套液質聯用儀(yi) ，一般選用180MP 或者200MP 型，儀(yi) 器使用霧化氣和幹燥氣，壓力一般0.8mpa左右。根據儀(yi) 器使用頻率和消耗量選用不同型號的查特杜瓦瓶，另外使用液氬作為(wei) 碰撞氣的也有選用杜瓦瓶充裝液體(ti) 使用的。

3 真空鍍膜機，查特杜瓦瓶為(wei) 真空鍍膜機提供所需的氮氣衝(chong) 入，排除內(nei) 部氧氣。讓真空鍍膜機內(nei) 部氮氣壓力保持在0.5mpa左右。需要持續吹入0.5mpa左右的氮氣。真空鍍膜機氮氣

為(wei) 真空鍍膜機大量供應氮氣，並保持穩定壓力，應使用常規的液態杜瓦瓶供應，杜瓦瓶內(nei) 部裝有液態氮氣，配置汽化係統及減壓裝置，調壓出來氣體(ti) 符合真空鍍膜機的使用，符合大量應用氮氣並穩定壓力和流量的氮氣氣體(ti) 應用。一般杜瓦瓶選用180MP規格或者200MP規格，出口安裝氮氣減壓閥，使用氣體(ti) 量大的客戶可選用MC450MP。

4 核磁共振儀(yi) 低壓罐，核磁共振儀(yi) 是需要使用230LP型低壓補液罐來作為(wei) 低壓補液，補充低壓液氮使用的，壓力可達到22psi，給核磁共振儀(yi) 補充液氮，配置有衝(chong) 液軟管，一罐液體(ti) 可夠核磁共振儀(yi) 衝(chong) 液幾次使用的。

5 程序降溫儀(yi) 程序降溫儀(yi) 的降溫需要查特杜瓦瓶的低壓杜瓦瓶230LP型補液型杜瓦瓶配套使用，為(wei) 其做補液罐體(ti) ，保證程序降溫儀(yi) 內(nei) 部的超低溫運行，最高壓力不超過22psi。低壓補液是低消耗和平穩供給的結合產(chan) 品。230LP型查特杜瓦瓶是低壓補液的典型應用產(chan) 品